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                  您的位置:首頁  -  產品中心  -  儀表,電子設備  -  otsukael  -  OPTMotsukael顯微鏡分光膜厚儀 紫外光譜儀

                  otsukael顯微鏡分光膜厚儀 紫外光譜儀

                  otsukael顯微鏡分光膜厚儀OPTM的介紹

                  除了可以進行高精度薄膜分析的分光橢圓偏光法外,它還通過實現自動可變測量角度機構來兼容所有類型的薄膜。除了傳統的旋轉分析器方法外,還通過為延遲板提供自動安裝/拆卸機構提高了測量精度。

                  • 產品型號:OPTM
                  • 廠商性質:經銷商
                  • 更新時間:2023-04-14
                  • 訪  問  量:1166
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                  otsukael顯微鏡分光膜厚儀OPTM的介紹

                  otsukael顯微鏡分光膜厚儀OPTM的介紹

                  產品信息

                  特征
                  • 膜厚測量范圍 1 nm 至 92 μm(SiO 2換算)

                  • 薄膜厚度值的高重復性

                  • 每點1秒以內的高速測量

                  • 圖案可瞄準微小點(最小Φ3μm)

                  • 適用于圖案化晶圓的膜厚測繪

                  • 可以獲取用于圖案對齊的圖像



                  除了可以進行高精度薄膜分析的分光橢圓偏光法外,它還通過實現自動可變測量角度機構來兼容所有類型的薄膜。除了傳統的旋轉分析器方法外,還通過為延遲板提供自動安裝/拆卸機構提高了測量精度。



                  特征
                  • 可在紫外-可見(300 至 800 nm)波長范圍內測量橢圓參數

                  • 能夠分析納米級多層薄膜的膜厚

                  • 通過 400 通道或更多通道的多通道光譜快速測量橢圓光譜

                  • 支持通過可變反射角測量對薄膜進行詳細分析

                  • 通過創建光學常數數據庫和添加配方注冊功能提高可操作性


                  測量項目
                  • 橢圓參數(tanψ,cosΔ)測量

                  • 光學常數(n:折射率,k:消光系數)分析

                  • 膜厚分析


                  測量對象
                  • 半導體ウェーハ
                    ゲート酸化薄膜,窒化膜
                    SiO2,SixOy,SiN,SiON,SiNx,Al2O3,SiNxOy,poly-Si,ZnSe, BPSG,TiN
                    レジストの光學定數(波長分散)

                  • 化合物半導體
                    AlxGa(1-x)As 多層膜,アモルファスシリコン

                  • FPD
                    配向膜

                  • 各種新素材
                    DLC(Diamond Like Carbon),超伝導用薄膜,磁気ヘッド薄膜

                  • 光學薄膜
                    TiO2,SiO2,反射防止膜

                  • リソグラフィー分野
                    g線(436nm),h線(405nm),i線(365nm)などの各波長におけるn,k評価



                  otsukael靜態光散射光度計 積分光度計SLS-6500HL的介紹



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