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                  技術文章/ article
                  
        
                   您的位置：首頁  -  技術文章  -  KLA Corporation FILMETRICS F30 系列 監控薄膜沉積，最的強的有力的工具 
                  
        
                  
      
                  
      
                  
        	
                  KLA Corporation FILMETRICS F30 系列 監控薄膜沉積，最的強的有力的工具
                  
            
                  更新時間：2024-04-13      瀏覽次數：536
                  
            
                  
            	 
                  KLA Corporation FILMETRICS F30 系列 監控薄膜沉積，最的強的有力的工具
                  在線厚度測量系統
                  監測控制生產過程中移動薄膜厚度。高達100 Hz的采樣率可以在多個測量位置得到
                  F30 系列

                  監控薄膜沉積，最的強的有力的工具
                  F30 光譜反射率系統能實時測量沉積率、沉積層厚度、光學常數 (n 和 k 值) 和半導體以及
                  電介質層的均勻性。


                  樣品層
                  分子束外延和金屬有機化學氣相沉積: 可以測量平滑和半透明的，或輕度吸收的薄膜。 這實
                  際上包括從氮化鎵鋁到鎵銦磷砷的任何半導體材料。
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                  各項優點:
                  • 極大地提高生產力
                  • 低成本 —幾個月就能收回成本
                  • A精確 — 測量精度高于 ±1%
                  • 快速 — 幾秒鐘完成測量
                  • 非侵入式 — 完的全的沉積室以外進行測試
                  • 易于使用 — 直觀的 Windows™ 軟件
                  • 幾分鐘就能準備好的系統
                  型號規格
                  *取決于薄膜種類
                  型號
                  		厚度范圍*波長范圍
                  F3015nm-70µm380-1050nm
                  F30-EXR15nm - 250µm380-1700nm
                  F30-NIR100nm - 250µm950-1700nm
                  F30-UV3nm-40µm190-1100nm
                  F30-UVX3nm - 250µm190-1700nm
                  F30-XT0.2µm - 450µm1440-1690nm

                  
            
                  
         	
                                            
        
                  
      
      
    
                  
  
                  

                  

 



                  
  
                  
    
    
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